硬質(zhì)氧化行業(yè)發(fā)展已經(jīng)有一定的歷史，無數(shù)人在時(shí)間的長(zhǎng)河里，做出無數(shù)次的實(shí)驗(yàn)與總結(jié)，得到現(xiàn)代的硬質(zhì)氧化技術(shù)。現(xiàn)代的硬質(zhì)氧化技術(shù)需要注意什么呢？
一、鋁合金硬質(zhì)氧化膜的性能
硬質(zhì)氧化是提高鋁基體的表面強(qiáng)度及表面功能的有效方法。通過硬質(zhì)氧化，可以得到功能性氧化鋁膜。硬質(zhì)氧化膜的性能主要取決于電解液的類型、濃度以及氧化過程的條件。硬質(zhì)氧化膜具有的主要性能為：硬質(zhì)氧化膜的多孔性，吸附性能，硬度，耐蝕性，絕緣性，光功能性，結(jié)合力等。
二、電解液的影響
電解液對(duì)阻擋層厚度，壁厚，氣孔直徑等有不同的影響。硬質(zhì)氧化使用的電解液最重要的性質(zhì)是它們有合適的二次溶解能力。二次溶解能力不同，則得到的硬質(zhì)氧化膜結(jié)構(gòu)性能不同，二次溶解能力低的電解液如硼酸，得到的是阻擋層性質(zhì)的薄膜。具有中等二次溶解能力的電解液如硫酸，草酸和鉻酸，得到的是較薄的阻擋層和較厚的孔外層組成；即使中等二次溶解能力的電解液也彼此有區(qū)別，對(duì)硫酸，草酸和鉻酸三種電解液研究發(fā)現(xiàn)，它們的氧化孔徑大小順序如下：硫酸<草酸<鉻酸，膜孔密度：硫酸>草酸>鉻酸。此外，電解液的濃度對(duì)硬質(zhì)氧化膜的溶解速度也有影響，濃度高時(shí)，硬質(zhì)氧化膜的溶解速度較快，膜的生長(zhǎng)較慢，影響了膜的厚度。
三、電壓參數(shù)的影響
在不同的電解液中，學(xué)多學(xué)者發(fā)現(xiàn)阻擋層在高壓下最先生成，其厚度與“生成電壓”成正比，電壓的升高，阻擋層的厚度，多孔膜的胞徑均成線性的增加，當(dāng)電壓達(dá)到一定程度之后，它們反而會(huì)減��；在氧化期間，突然降低電壓，或增加電壓可形成膜孔隙的分支結(jié)構(gòu)。
四、電流參數(shù)的影響
電流密度的提高，硬質(zhì)氧化膜的生成較快；反之減小電流密度，膜的生成速度緩慢，但是膜相當(dāng)致密；當(dāng)電流密度提高時(shí)，會(huì)加速硬質(zhì)氧化膜的溶解。研究發(fā)現(xiàn)電流密度的改變對(duì)膜的內(nèi)層無影響，但影響膜的外層厚度。
五、電解液溫度的影響
當(dāng)電解液的溫度升高時(shí)，硬質(zhì)氧化膜的溶解速度加快，生長(zhǎng)速度減慢，硬質(zhì)氧化膜的厚度減��；反之亦然。氧化溫度愈高，電解液的溶解能力就愈大。反之溫度愈低，硬質(zhì)氧化膜就愈厚，并且硬質(zhì)氧化膜的致密度也愈大，耐腐蝕性也愈大。但是溫度也不能太低，溫度太低就會(huì)導(dǎo)致生產(chǎn)效率低，電能消耗大。一般氧化溫度控制在10℃-30℃。
六、電化學(xué)處理時(shí)間的影響
隨著時(shí)間的延長(zhǎng)，硬質(zhì)氧化膜的厚度不斷增加，抗蝕能力也提高，但當(dāng)硬質(zhì)氧化膜生長(zhǎng)到一定厚度之后，生長(zhǎng)速度會(huì)減慢下來。減慢的原因是由于膜層變厚，電阻加大，影響導(dǎo)電能力；另外膜層溶解速度相比之下來得更快。為了得到一定厚度的硬質(zhì)氧化膜，多采用30-40min的時(shí)間來處理。微弧氧化   鋁合金